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M-100DIC型微分干涉數碼顯微鏡是一款性價比非常高的檢測用光學儀器。導電粒子金相顯微鏡采用無限遠光學成像系統,內置LED高亮度照明器,引入了微分干涉顯微觀察功能。雙目攝影觀察頭,體現了目視觀察的真實還原,以及數碼攝影與顯微成像的技術融合,觀察到的干涉圖像具有更強的立體感,適合于非透明材質的表面形態觀察,如液晶屏導電粒子的顯微形態。是精密制造領域內品質檢測、結構研究的理想儀器。
微分干涉金相顯微鏡適用于對工件表面的組織結構與幾何形態進行顯微觀察。采用無限遠光學系統與模塊化功能設計理念,可以方便升級系統,實現偏光觀察, DIC觀察等功能,導柱升降裝置,可以快速調整工作臺與物鏡之間的距離,適用于不同厚度工件檢測。機械移動式載物平臺有效定位工件觀察部位。調焦機構采用圓柱滾子導向傳動,機構升降平穩。產品適用于精密零件,集成電路,包裝材料等產品檢測。
PZ-20BD型暗場金相顯微鏡采用無限遠光學系統,可提供光學性能。緊湊穩定的高剛性主體,充分體現了顯微操作的防振要求。模塊化的功能設計,可以方便升級系統,實現偏振觀察、暗視場觀察、明視場微分干涉觀察等功能。符合人機工程學要求的理想設計,使操作更方便舒適,空間更廣闊。可用于半導體硅晶片、LCD基板、固體粉未及其它工業試樣的顯微觀察,是材料學、精密電子工程學等領域研究的理想儀器。
PZ-20B型倒置金相顯微鏡采用無限遠光學系統,可提供光學性能。明場金相顯微鏡緊湊穩定的高剛性主體,充分體現了顯微操作的防振要求。模塊化的功能設計,可以方便升級系統,實現偏振觀察、暗視場觀察、明視場微分干涉觀察等功能。符合人機工程學要求的理想設計,使操作更方便舒適,空間更廣闊。可用于半導體硅晶片、LCD基板、固體粉未及其它工業試樣的顯微觀察,是材料學、精密電子工程學等領域研究的理想儀器
XPL-3200偏光金相顯微鏡是利用光的偏振特性對具有雙折射性物質進行研究鑒定的*儀器, 可供廣大用戶進行透射單偏光觀察,正交偏光觀察,錐光觀察。廣泛應用于地質、化工、醫療、藥品等領域的研究與檢驗,也可進行液態高分子材料,生物聚合物及液晶材料的晶相觀察,是科研機構與高等院校進行研究與教學的理想儀器。
PZ-L3203正置透反射金相顯微鏡適用于對不透明物體或透明物體的顯微觀察。采用無限遠光學系統與模塊化功能設計理念、可提供光學性能與產品系統升級,實現透反射同步照明系統,無限遠長距平場消色 差物鏡、大視野目鏡和偏光觀察裝置,具有圖像立體感且清晰、造型美觀,操作方便等特點,是生物學、金屬學、礦物學、精密工程學、電子學等研究的理想儀器。